Pierwszy raz na Wizaż24.pl?
Zarejestruj się.
Nie pamiętasz hasła?
Na podany wyżej adres email wyślemy nowe utworzone losowo hasło. Po zalogowaniu proszę ustwić nowe hasło.
OKAZJE
Tlenowa maska oczyszczająca do twarzy z Complex Acid+ zawiera naturalne kwasy. Działają jak peeling, złuszczają martwe komórki skóry, oczyszczają pory i zapewniają dostęp tlenu do głębszych warstw skóry. Węgiel w masce pochłania zanieczyszczenia i usuwa toksyny. Maska PShhh ma efekt matujący, wyrównuje ton. Po zastosowaniu oczyszczającej maski tlenowej może być odczuwalne lekkie pieczenie. Nie zaleca się nakładać na skórę z podrażnieniami i uszkodzeniami.
Zastosowanie maskaz kwasami AHA działa jak peeling i może powodować krótkotrwałe zaczerwienienie i lekkie pieczenie, które całkowicie znikają w kolejnych etapach pielęgnacji skóry unikać kontaktu z oczami nie stosować na uszkodzoną, podrażnioną lub zaognioną skórę tylko do użytku zewnętrznego trzymać z dala od dzieci przechowywać w temperaturze pokojowej nie używać ponownie.
1. Oczyść skórę z makijażu.
2. Rozłóż maskę i nałóż ją na twarz przez 10-15 minut.
3. Zdejmij maskę i masuj twarz delikatnymi ruchami okrężnymi.
4. Opłucz twarz wodą.
Składniki INCI Water,Glycerin,Polyglycerin-6,Sea Silt Extract,Sodium Cocoyl Alaninate,Trehalose,Ethyl Perfluorobutyl Ether,1,2-Hexanediol,Pentylene Glycol,Lauryl Glucoside,Saccharide Isomerate,Sucrose,Urea,Tartaric Acid,Caprylyl Glycol,Parfum.